SEM 样品导电镀膜｜HEZAO GMC-1000 磁控离子溅射仪

扫描电镜观测绝缘、低导电样品时，极易产生荷电效应，造成图像发白、漂移、细节丢失，是材料、生物、半导体样品表征里十分常见的制样难题。导电镀膜是解决荷电问题的主流手段，镀膜质量直接决定后续 SEM、EBSD 成像清晰度。随着高分辨电镜普及，用户对镀膜颗粒细度、热损伤控制、工艺重复性的要求持续提升。
针对电镜样品导电镀膜需求，禾早电子推出 HEZAO GMC-1000 磁控离子溅射仪（喷金仪），用于不导电样品表面金属薄膜制备，为扫描电镜表征提供稳定可靠的制样方案。

• 品牌及型号：HEZAO，GMC-1000
• 设备类型：磁控离子溅射仪（喷金仪）

GMC-1000 采用低电压磁控溅射技术，可实现金、铂等靶材镀膜，能够制备颗粒细小、连续性好的导电薄膜，薄膜颗粒可达 5nm 以内，最大程度保留样品原始微观形貌，避免粗颗粒掩盖样品精细结构。低等离子体热辐射设计，有效降低离子轰击带来的样品热损伤，适配热敏材料、软材料、生物样品等高要求场景。
整机采用紧凑化台式结构，节省实验室台面空间；搭载数字化触摸屏，一键启动自动镀膜流程，真空快速起振，真空达成时间控制在 1 分钟以内，大幅提升样品制备效率。全闭环真空监控，工艺参数可存储调用，镀膜结果重复性高，便于实验室标准化制样。
该设备可与离子研磨仪、脉冲喷碳仪配套，组成完整电镜样品制备体系；同时可搭配 RP-800M 主动减震台、Az100 消磁器，从样品制备、振动隔离、弱磁环境三个维度，搭建整套高分辨电镜实验室方案。
在实际测试中，很多实验室容易忽略镀膜工艺对高分辨成像的影响，镀膜颗粒过大、样品受热变形，都会直接造成电镜数据失效。选用可控性好的磁控溅射设备，能够稳定保障成像质量，减少样品复测成本。
禾早电子持续完善 SEM 配套制样产品线，面向高校、科研院所、企业检测实验室，提供一站式电镜实验室建设方案。如果您在样品测试中遇到荷电干扰、镀膜效果不佳等问题，欢迎联系我们，匹配适配的溅射制样方案。